請和測試部聯系,根據樣品難以程度和耗時等因素確認價格。
儀器名稱:S4800場發(fā)射掃描電子顯微鏡
加速電壓15kV下,二次電子分辨率1nm;加速電壓1kV下(減速模式),二次電子分辨率1.4nm; 材料的顯微結構,微區(qū)成分分析,低加速電壓可直接觀察不導電試樣。
主要功能及應用范圍:
掃描電鏡具有高景深、高分辨率、高放大倍數,且操作簡便、樣品制備簡單等特點?捎糜谥苯佑^察樣品表面形貌。廣泛應用于材料科學、生物醫(yī)學、物理、化學、地質、機械加工、微電路質量檢驗、失效分析等領域。
儀器名稱: FEI Tecnai G2 F20場發(fā)射透射電子顯微鏡
儀器參數:
加速電壓:200kV
高分辨靴 (S-TWIN)
點分辨率:0.24nm;
線分辨率:0.14nmSTEM (HAADF)
分辨率:0.19nm
電子束能量色散:<0.7eV大束流:>100nA;
1nm束斑大束流:>0.5nAEELS (Gatan Enfina)
能量分辨率:0.7eV
EDAX能譜儀 (EDS):5B~92U
主要功能及應用范圍:
可實現材料微觀組織形貌、晶體結構和微區(qū)成分的同位分析。樣品類型包括金屬材料、金屬基復合材料和陶瓷及陶瓷基復合材料的薄膜樣品,以及各種形狀的納米材料等?蓮V泛應用于材料科學、物理、化學、地質諸多研究領域。
儀器型號:LABRAM XPLORA
儀器參數:激發(fā)波長532nm-638nm主要功能及應用范圍:
1. 可用于材料鑒定、組成分析乃至材料的異構體區(qū)分:
2. 接受多種形狀的樣品(如瓶裝、小玻璃瓶裝、核磁管裝、片劑、膜劑等)。
儀器名稱:ESCALAB 250 X射線光電子能譜儀
性能指標:
能量分辨率≤0.45eV,
空間分辨率≤20μm,
真空度≤2×10-10mbar;
帶俄歇、紫外光電子能譜附件
主要功能及應用范圍:
測試固體樣品表面成分、化學元素像、化學價態(tài)、深度剖析。
樣品要求:適用于非磁性、非放射性和非揮發(fā)性導體、半導體、絕緣體,粉末、薄膜,無機物、有機物、高聚物材料。
塊體樣品:尺寸(長×寬×高)10 mm×10 mm×3 mm,上下表面平行且平整。樣品無磁性。
粉末樣品:樣品重量:~30 mg,樣品要充分干燥,粉末盡量研細,樣品無磁性,無腐蝕性。
主要功能及應用范圍:
紅外光譜儀可用于中紅外光譜分析。紅外光譜法能提供豐富的有關分子結構方面的信息,可用于有機化合物的鑒別;能對聚合物的化學性質、立體結構、構象、序列、取向等提供定性的信息;研究聚合物的主鏈結構、取代基位置、雙鍵位置、側鏈結構以及老化和降解機理;對高分子材料、粘合劑及涂料等組分的定性分析;可用于表面或界面研究。
主要功能及應用范圍:紫外-可見分光光度計可以獲得液體和固體在紫外及近紅外范圍內的透射及吸收特性,可以進行分子鑒別,材料吸光度測試,
應用于光催化研究、半導體光催化劑的帶邊測定、液相光催化反應動力學表征、貴金屬納米顆粒表面等離子體共振性能表征、半導體薄膜的吸光度測量、光學濾光片性能檢測等。
儀器名稱: 視頻光學接觸角測量儀
(Video-based, contact angle measuring device)
儀器型號: OCA20
國別、廠家: 德國 Dataphysics 公司
主要技術指標:樣品臺規(guī)格: 100*100mm
接觸角測量范圍: 0~180°±0.1°
表面/界面張力測量范圍:0.01~2000±0.05 mN/m
測試溫度范圍:室溫~400 ℃升溫速率:2k/s高性能六倍聚焦透鏡及CCD攝像系統(tǒng)。
主要附件:
垂直注射針架,無需連接軟管
溫度控制單元(TEC 400)
薄膜及紙張支持器(FSC80、FSH30)
電動劑量單元(E-MD/2)
TC 400/NHD針加熱溫度控制器
NHD 400針加熱系統(tǒng)
主要功能及應用范圍:
本儀器通過光學視頻的原理,采用座滴法(sessile drop)、懸滴法(Pendent drop)測量液體的靜態(tài)、動態(tài)接觸角及液體的表面/界面張力。廣泛應用于納米材料、高分子復合材料、生物復合材料、油漆、涂料、涂層、信息材料等領域表面/界面性能的研究。
主要功能及應用范圍:
將材料制備成紐扣電池,測試鈉離子電池的開路電壓,循環(huán)伏安曲線,不同倍率下的循環(huán)曲線,倍率曲線,交流阻抗圖譜等相關測試。
適用于各種可應用于鈉離子電池正負的材料,包括各種納米粉體材料、納米薄膜材料。
儀器名稱:氣體吸附儀
儀器型號:AUTOSORB-1-C
國別、廠家:美國 QUANTACHROME儀器公司
主要技術指標:
孔徑分析范圍:3.5-5000 Å
比表面測定下限:0.0005 m2/g
孔體積檢測限:<0.0001cc/g
壓力范圍:10-6-0.13MPa
分辨率:0.000025% ofrange
小可分辨相對壓力(P/P0):2.6×10-7(N2)
真空度:3.75×10-10 mmHg
分析站數:1
脫氣站數:2
脫氣溫度:室溫~450 ℃
溫度選擇:1 ℃遞進
溫度精度:±1% ofset point
主要功能及應用范圍:
本儀器兼具化學吸附和物理吸附兩種功能?蓽y定材料的比表面積、孔徑分布、孔體積分布。適用于聚合物粒子、無機多孔粒子、催化劑顆粒的吸附特征及化學吸附現象的研究。
晶片尺寸和類型:單晶片50-200mm;小批量晶片可以大至150mm;156mm x 156mm太陽能硅片;
三維物體;粉末和顆粒;穿孔樣品
工藝溫度: 50 – 500°C ,可定制為更高溫度
基片裝載選件: 氣動升降機(手動裝載);手動loadlock負載保護;半自動裝載機器臂;
前軀體: 液體、固體、氣體、臭氧、等離子;高可以連接12個源、6個獨立管道入口
廣泛應用于:納米材料、納米科技、半導體、薄膜材料、薄膜沉積以及航空航天領域。
儀器名稱:Rigaku D/max 2550V
儀器參數:
X射線發(fā)生器:功率18kW(60kV,450mA),Cu旋轉陽靶
掃描方式:θ-2θ測角儀
X射線發(fā)生器穩(wěn)定度:<0.01%
測角儀精度(2θ):0.002°
主要功能及應用范圍:
適合于物相定性定量分析、晶型鑒別、結晶度測定以及晶胞參數精確測定等薄膜分析附件,適合于納米材料粒徑尺寸及分布分析
儀器名稱:熱重分析儀-Q500
儀器型號:TA-Q500 TGA
國別、廠家:美國TA公司,簡稱TA公司
主要技術指標:
溫度測量范圍:室溫~1000 ℃
升溫速率:0.1~100 ℃/min
天平靈敏度:0.1 μg
天平精確度:0.01 %
天平精度:0.01 %
爐內氣氛: N2 (或Air)
動態(tài)稱重范圍:1000mg
恒溫溫度準確度:1℃
恒溫溫度精確度:0.1℃
主要功能及應用范圍:
用于測定試樣在程序溫度下(升溫、降溫、恒溫)質量的變化。由此了解物質的熱分解過程,評價物質的熱穩(wěn)定性,探討穩(wěn)定性與物質結構及添加劑之間的關系。研究物質降解過程的機理及降解動力學。
主要功能及應用范圍:
將材料制備成電容器,測試電容器的循環(huán)伏安曲線,不同倍率下的循環(huán)曲線,倍率曲線,交流阻抗圖譜等相關測試。
適用于各種可應用于電容器正負的材料,包括各種納米粉體材料、納米薄膜材料。
收費標準:1000-2000/批次
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